超臨界流体を利用した次世代DRAM用高誘電体薄膜作製プロセスの開発
超臨界流体を利用した次世代DRAM用高誘電体薄膜作製プロセスの開発
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使用超临界流体开发下一代 DRAM 高介电薄膜制造工艺
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
霜垣幸浩
中科院分区：
文献类型：
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作者：
渡邊圭;百瀬健;霜垣幸浩
