T.Matsuura et al.: "Anisotropy improvement by nitrogen chemisorption in highly selective etching of n^+-polysilicon using an ultraclean electron-cyclotron-resonance N_2/Cl_2 plasma"
T.Matsuura et al.: "Anisotropy improvement by nitrogen chemisorption in highly selective etching of n^+-polysilicon using an ultraclean electron-cyclotron-resonance N_2/Cl_2 plasma"
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T.Matsuura 等人：“使用超净电子回旋共振 N_2/Cl_2 等离子体对 n^-多晶硅进行高选择性蚀刻，通过氮化学吸附改善各向异性”
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