A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrates in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond
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微波等离子体化学气相沉积金刚石中离子对负偏压基底加速的数值模拟
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K,Nose and Y,Mitsuda
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Nose;Y. Mitsuda;K,Nose and Y,Mitsuda
