Epitaxial growth of iron oxide nanodots on Si substrate using Fe-coating Ge nuclei
Epitaxial growth of iron oxide nanodots on Si substrate using Fe-coating Ge nuclei
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使用 Fe 涂层 Ge 核在 Si 基底上外延生长氧化铁纳米点
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Sakai and Yoshiaki Nakamura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takafumi Ishibe;Kentaro Watanabe;Shotaro Takeuchi;Akira Sakai and Yoshiaki Nakamura
