S.Kishida et al.: "THE PREPARATION CONDITIONS OF THE FLAT 80KーPHASE BiーSrーCaーCuーO THIN FILMS BY RF MAGNETRON SPUTTERING" APPLIED SURFACE SCIENCE. (1991)
S.Kishida et al.: "THE PREPARATION CONDITIONS OF THE FLAT 80KーPHASE BiーSrーCaーCuーO THIN FILMS BY RF MAGNETRON SPUTTERING" APPLIED SURFACE SCIENCE. (1991)
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S.Kishida 等人：“通过射频磁控溅射法制备 80K 相 Bi-Sr-Ca-Cu-O 薄膜的制备条件”应用表面科学 (1991)。
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