The preparation of silicon films suitable for studies of electron-induced fission
The preparation of silicon films suitable for studies of electron-induced fission
复制标题
适用于电子诱发裂变研究的硅薄膜的制备
DOI：
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发表时间：
1976
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. L. Gallant
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Sandorfi;L. R. Kilius;J. L. Gallant
