コンタクトエピタキシャル法を用いたCe:YIG膜形成のためのSi導波路製作プロセスの検討
コンタクトエピタキシャル法を用いたCe:YIG膜形成のためのSi導波路製作プロセスの検討
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接触外延法形成Ce:YIG薄膜硅波导工艺研究
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
水本 哲弥
中科院分区：
文献类型：
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作者：
飯島 夏来;清藤 将人;武田 正行;中津原 克己;野毛 悟;水本 哲弥
