急速加熱処理によるGe_<1-x>Sn_x層の低温エピタキシャル成長
急速加熱処理によるGe_<1-x>Sn_x層の低温エピタキシャル成長
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快速热处理低温外延生长Ge_<1-x>Sn_x层
DOI：
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发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
渡部平司
中科院分区：
文献类型：
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作者：
荻原伸平;片岡伸文;鈴木雄一朗;細井卓治;志村考功;渡部平司
