Effects of growth atmosphere and homo-buffer layer on properties of ZnO films prepared on Si(111) by PLD

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生长气氛和同质缓冲层对Si(111)上PLD制备ZnO薄膜性能的影响

DOI：
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发表时间：
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期刊：
Vacuum
影响因子：
4
通讯作者：
Liu, Weifeng
Liu, Weifeng
中科院分区：
材料科学2区
文献类型：
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作者：
Zhao, Jie;Hu, Lizhong;Wang, Weiwei;Gong, Ailing;Liu, Weifeng

文献摘要

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