High Speed Si Etching with ClF3 Cluster Injection
High Speed Si Etching with ClF3 Cluster Injection
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使用 ClF3 簇注入进行高速硅蚀刻
DOI：
10.1063/1.3548393
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and J.Matsuo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Seki;Y. Yoshino;T. Senoo;K. Koike;S. Ninomiya;T. Aoki;and J.Matsuo
