Low-temperature diffusion assisted by femtosecond laser-induced modifications at Ni/SiC interface
Low-temperature diffusion assisted by femtosecond laser-induced modifications at Ni/SiC interface
复制标题
Ni/SiC 界面飞秒激光诱导改性辅助低温扩散
DOI：
10.7567/apex.11.016502
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发表时间：
2018
影响因子：
2.3
通讯作者：
and Yasuhiro Tanaka
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsuya Okada;Takuro Tomita;Tomoyuki Ueki;Takuya Hashimoto;Hiroki Kawakami;Yuki Fuchikami;Hiromu Hisazawa;and Yasuhiro Tanaka
