Si濃度の異なるAl0.61Ga0.39N混晶薄膜のカソードルミネッセンス法による局所スペクトル評価
Si濃度の異なるAl0.61Ga0.39N混晶薄膜のカソードルミネッセンス法による局所スペクトル評価
复制标题
阴极发光法对不同Si浓度的Al0.61Ga0.39N混晶薄膜的局部光谱评价
DOI：
--
复制
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
山田陽一
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
倉井聡;三宅秀人;平松和政;山田陽一
