Interfacial Structure of Oxynitride Layer on Si(100) with Plasma-Excited N2O
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Si(100) 上氮氧化物层与等离子体激发 N2O 的界面结构
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Enta
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiharu Enta;Osamu Morimoto;Hiroo Kato;Yasuo Sakisaka;Y. Enta
