An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Real-Coded Genetic Algorithms
An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Real-Coded Genetic Algorithms
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使用实数编码遗传算法的化学气相沉积过程反应机理自动建模系统
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y. Ema
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Takahashi;H. Nakai;H. Kinpara;Y. Ema
