Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O2 on properties of TiO2 films deposited by facing targets sputtering
Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O2 on properties of TiO2 films deposited by facing targets sputtering
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工作气体压力和 Ar/O2 比例对对向靶溅射沉积 TiO2 薄膜性能的依赖性
DOI：
10.1016/s0040-6090(02)00806-4
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
H. Nakabayashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Takahashi;H. Nakabayashi
