40 keV shaped electron beam lithography for LIGA intermediate mask fabrication
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DOI：
10.1016/s0167-9317(99)00073-8
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发表时间：
1999-05
影响因子：
2.3
通讯作者：
R. Luttge;D. Adam;F. Burkhardt;Falk Hoke;H. Schacke;M. Schmidt;H. Wolf;A. Schmidt
中科院分区：
文献类型：
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作者：
R. Luttge;D. Adam;F. Burkhardt;Falk Hoke;H. Schacke;M. Schmidt;H. Wolf;A. Schmidt
