Optical reflectivity based on the effective interaction potentials of xenon plasma
Optical reflectivity based on the effective interaction potentials of xenon plasma
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基于氙等离子体有效相互作用势的光学反射率
DOI：
10.1002/ctpp.201700104
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发表时间：
2017
影响因子：
1.6
通讯作者：
T.S. Ramazanov
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
E. O. Shalenov;S. Rosmej;H. Reinholz;G. Röpke;K. N. Dzhumagulova;T.S. Ramazanov
本文给出了在1.6-20 GPa压力和30，000 K温度下，基于有效相互作用势（考虑了静态和动态屏蔽效应）的稠密氙等离子体的反射率和布鲁斯特角的新结果。利用菲涅耳公式，研究了s偏振和p偏振激光波的反射系数。原子的影响，这是考虑到在碰撞频率的水平，通过有效的相互作用势，被证明是至关重要的理解反射过程。
New results on the reflectivity and Brewster angle of dense xenon plasmas based on of the effective interaction potentials (which take into account static and dynamic screening effects) at pressures of 1.6–20 GPa and temperatures of ∼30,000 K are presented. Using Fresnel formulas, the reflectivity coefficients for the s‐ and p‐polarized laser waves are investigated. The influence of atoms, which was taken into account at the level of collision frequency via an effective interaction potential, is proven to be crucial for understanding the reflection process.
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DOI：
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发表时间：
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Desjarlais, MP