アノード酸化ZrO2-WO3-SiO2膜のプロトン伝導性に及ぼす アノード酸化条件の影響

アノード酸化ZrO2-WO3-SiO2膜のプロトン伝導性に及ぼす アノード酸化条件の影響
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阳极氧化条件对阳极氧化ZrO2-WO3-SiO2薄膜质子电导率的影响

DOI:
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
514.坂下良介,辻悦司,青木芳尚,幅崎浩樹
514.坂下良介,辻悦司,青木芳尚,幅崎浩樹
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
K. Ye;Y. Aoki;E. Tsuji;S. Nagata;H. Habazaki;Ke Ye;514.坂下良介,辻悦司,青木芳尚,幅崎浩樹

文献摘要

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