Growth control of carbon nanotubes by plasma-enhanced chemical vapor deposition and reactive ion etching
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通过等离子体增强化学气相沉积和反应离子蚀刻控制碳纳米管的生长
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Hata 他6名
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Sato;K.Hata 他6名
