H.Hamamura, R.Yamamoto, K.Takahiro, S.Yamaguchi, H.Komiyama, Y.Shimogaki: "FMCD(Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc. Advanced Metallization Conference in 1998. 345-349 (1999)
H.Hamamura, R.Yamamoto, K.Takahiro, S.Yamaguchi, H.Komiyama, Y.Shimogaki: "FMCD(Flow Modulation Chemical Vapor Deposition) for reducing residual chlorine concentration in TiN films"Proc. Advanced Metallization Conference in 1998. 345-349 (1999)
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H.Hamamura、R.Yamamoto、K.Takahiro、S.Yamaguchi、H.Komiyama、Y.Shimogaki：“用于降低 TiN 薄膜中残留氯浓度的 FMCD（流量调节化学气相沉积）”Proc。
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