Optimization of lens adjustment in semiconductor lithography equipment using quadratically constrained and second- order cone programming
Optimization of lens adjustment in semiconductor lithography equipment using quadratically constrained and second- order cone programming
复制标题
使用二次约束和二阶锥编程优化半导体光刻设备中的透镜调整
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yuji Shinano,Toshiyuki Yoshihara,Ryuhei Miyashiro,Youzou Fukagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
山口大輔;今掘慎治;宮代隆平;松井知己;Yuji Shinano,Toshiyuki Yoshihara,Ryuhei Miyashiro,Youzou Fukagawa
