H.Toyoda et al.: "Beam Study of the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions"Journal of Applied Physics. (発表予定). (2004)
H.Toyoda et al.: "Beam Study of the Si and SiO_2 Etching Processes by Energetic Fluorocarbon Ions"Journal of Applied Physics. (発表予定). (2004)
复制标题
H.Toyoda 等人：“高能氟碳离子对 Si 和 SiO_2 蚀刻过程的束流研究”应用物理学杂志（即将出版）。
DOI：
--
复制
发表时间：
--
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
