Chemical Vapor Deposition of Metal Diboride and Metal Oxide Thin Films From Borohydride-Bonded Precursors
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硼氢化物键合前体化学气相沉积金属二硼化物和金属氧化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yu Yang
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yu Yang
