Yukio Watanabe: "Powderーfree plasma chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon with high rf power density using modulated rf discharge" Applied Physics Letters. 57. 1616-1618 (1990)
Yukio Watanabe: "Powderーfree plasma chemical vapor deposition of hydrogenated amorphous silicon with high rf power density using modulated rf discharge" Applied Physics Letters. 57. 1616-1618 (1990)
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Yukio Watanabe：“使用调制射频放电的高射频功率密度氢化非晶硅的无粉等离子体化学气相沉积”应用物理快报 57. 1616-1618 (1990)。
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