Effects of Cu Self-Capping and Ta Capping on Nanometer-Sized Cu Films Sputter-Deposited on β-Ta

Effects of Cu Self-Capping and Ta Capping on Nanometer-Sized Cu Films Sputter-Deposited on β-Ta
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Cu 自覆盖和 Ta 覆盖对溅射沉积纳米尺寸 Cu 薄膜的影响

DOI:
10.2320/matertrans.m2010286
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发表时间:
2011
影响因子:
1.2
通讯作者:
H.
H.
中科院分区:
材料科学4区
文献类型:
--
作者:
Tanimoto;H.;Sugimori,T.;Kumamoto;S.;Matsui;H. and Mizubayashi;H.

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