Self-limiting reactions of ammonium salt in CHF3/O2 downstream plasma for thermal-cyclic atomic layer etching of silicon nitride
Self-limiting reactions of ammonium salt in CHF3/O2 downstream plasma for thermal-cyclic atomic layer etching of silicon nitride
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CHF3/O2下游等离子体中铵盐的自限反应用于氮化硅热循环原子层蚀刻
DOI：
10.1116/1.5111663
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发表时间：
2019
影响因子：
2.9
通讯作者：
Hori Masaru
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shinoda Kazunori;Miyoshi Nobuya;Kobayashi Hiroyuki;Izawa Masaru;Saeki Tomonori;Ishikawa Kenji;Hori Masaru
