M.Iwaya, S.Terao, N.Hayashi, T.Kashima, H.Amano, I.Akasaki: "Realization of crack-free and high-quality thick AlxGal-xN for UV optoelectronics using low-temperature interlayer"Applied Surface Science. 159/160. 405-413 (2000)
M.Iwaya, S.Terao, N.Hayashi, T.Kashima, H.Amano, I.Akasaki: "Realization of crack-free and high-quality thick AlxGal-xN for UV optoelectronics using low-temperature interlayer"Applied Surface Science. 159/160. 405-413 (2000)
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M.Iwaya、S.Terao、N.Hayashi、T.Kashima、H.Amano、I.Akasaki：“利用低温中间层实现用于紫外光电器件的无裂纹、高质量厚 AlxGal-xN”应用表面科学
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