Area-selective chemical vapor deposition of cobalt from dicobalt octacarbonyl: Enhancement of dielectric-dielectric selectivity by adding a coflow of NH 3
Area-selective chemical vapor deposition of cobalt from dicobalt octacarbonyl: Enhancement of dielectric-dielectric selectivity by adding a coflow of NH 3
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从八羰基二钴中对钴进行区域选择性化学气相沉积：通过添加 NH 3 共流增强介电-介电选择性
DOI：
10.1116/1.5144501
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发表时间：
2020
影响因子：
2.9
通讯作者：
Abelson, John R.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Zhang, Zhejun V.;Liu, Sumeng;Girolami, Gregory S.;Abelson, John R.
