Study on the behavior of the Plasma Plume and Film Quality using Pulsed Laser Deposition with Tungsten Target

Study on the behavior of the Plasma Plume and Film Quality using Pulsed Laser Deposition with Tungsten Target
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钨靶脉冲激光沉积等离子体羽流行为和薄膜质量研究

DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
Trasactions of the Materials Research Society of Japan Vol.34(In press)
影响因子：
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通讯作者：
Y.Suda
Y.Suda
中科院分区：
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文献类型：
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作者：
H.Kawasaki;T.Ohshima;Y.Yagyu;Y.Suda

文献摘要

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