Effects of Processing Parameters on Internal Stress of BN Films Prepared by Ion Mixing and Vapor Deposition Technique, Frontier of Applied Plasma Technology
Effects of Processing Parameters on Internal Stress of BN Films Prepared by Ion Mixing and Vapor Deposition Technique, Frontier of Applied Plasma Technology
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工艺参数对离子混合和气相沉积技术制备BN薄膜内应力的影响，等离子体技术应用前沿
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Uchida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
B. Leng;S. Hanaki;M. Yamashita;H. Uchida
