アモルファスGa2O3薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討
アモルファスGa2O3薄膜のエキシマレーザー照射による室温固相エピタキシーにおける作製因子の検討
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准分子激光辐照非晶Ga2O3薄膜室温固相外延制备因素研究
DOI：
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
吉本 護
中科院分区：
文献类型：
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作者：
森田 公之;大賀 友瑛;土嶺 信男;金子 智;松田 晃史;吉本 護
