Properties of CrN/VN multilayer films prepared via a hybrid system of HiPIMS and pulsed-DC magnetron sputtering
Properties of CrN/VN multilayer films prepared via a hybrid system of HiPIMS and pulsed-DC magnetron sputtering
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HiPIMS 和脉冲直流磁控溅射混合系统制备的 CrN/VN 多层薄膜的性能
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T. Kimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Maeda;T. Kimura
