Preparation of Si-Contained DLC by Co-Deposition of Filtered-Pulse-Arc and Electron-Beam Depositions
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复制标题
过滤脉冲电弧与电子束沉积共沉积制备含硅 DLC
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.kamiya
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Sugie;T.Harigai;T.Toya;H.Takikawa;M.kamiya
