Refractive index and extinction coefficient of Si at 400 nm between 10 and 300 K
Refractive index and extinction coefficient of Si at 400 nm between 10 and 300 K
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10 至 300 K 范围内 Si 在 400 nm 处的折射率和消光系数
DOI：
10.7567/jjap.54.128001
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Hirao
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Nagakubo;H. Ogi;and M. Hirao
