気相中酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
気相中酸化グラフェンアシストシリコンエッチング
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氧化石墨烯辅助硅气相蚀刻
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
窪田 航，宇都宮 徹，一井 崇，杉村 博之
中科院分区：
文献类型：
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作者：
真部 研吾;中野 美紀;三宅 晃司;則包 恭央;小畠秀和，隼瀬俊介，後藤琢也，小澤俊平，白鳥英，杉岡健一;窪田 航，宇都宮 徹，一井 崇，杉村 博之
