Cu箔基板上グラフェンCVD成長における核発生支配要因
Cu箔基板上グラフェンCVD成長における核発生支配要因
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铜箔基板上石墨烯 CVD 生长的成核控制因素
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
平良 隆信，小幡 誠司，斉木 幸一朗
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Takanobu Taira;Seiji Obata;Koichiro Saiki;斉木幸一朗，寺澤知潮;T. Terasawa and K. Saiki;斉木 幸一朗;平良 隆信，小幡 誠司，斉木 幸一朗;斉木 幸一朗;平良 隆信，小幡 誠司，斉木 幸一朗
