Effect of substrate transfer on silicon epitaxy during mesoplasma CVD
Effect of substrate transfer on silicon epitaxy during mesoplasma CVD
复制标题
介质CVD过程中衬底转移对硅外延的影响
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
T.Yoshida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Iwamoto;M.Yoshioka;J.M.A.Diaz;M.Kambara;T.Yoshida
