Position Controlled Solid-Phase Crystallization of SiGe by Ni-Imprint Technique
Position Controlled Solid-Phase Crystallization of SiGe by Ni-Imprint Technique
复制标题
镍压印技术的 SiGe 位置控制固相结晶
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and M. Miyao
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Sadoh;K. Toko;H. Kanno;T. Asano;and M. Miyao
