Effect of oxygen plasma treatment for various a-C:H films
Effect of oxygen plasma treatment for various a-C:H films
复制标题
氧等离子体处理对各种a-C:H薄膜的影响
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Hirakuri. A. Homma
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y. Ohgoe;U. Kawachi;K. Hirakuri. A. Homma
