K.Nanbu, T.Edo, M.Takahashi: "Effects of Wafer Biasing on the Etching by an Inductively-Coupled Plasma"Memories of Institute of Fluid Science, Tohoku University. 15(in press). (2004)
K.Nanbu, T.Edo, M.Takahashi: "Effects of Wafer Biasing on the Etching by an Inductively-Coupled Plasma"Memories of Institute of Fluid Science, Tohoku University. 15(in press). (2004)
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K.Nanbu、T.Edo、M.Takahashi：“晶片偏置对感应耦合等离子体蚀刻的影响”东北大学流体科学研究所的回忆。
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