H.TANAKA, Z.CHUANJIE, Y.HAYAKAWA, M.HIRAYAMA, A.TERAMOTO, S.SUGAWA, T.OHMI: "High-Quality Silicon Oxide Film Formed by Diffusion Region Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Oxygen Radical Treatment Using Microwave-Excited High-Density Plasma"Jpn.
H.TANAKA, Z.CHUANJIE, Y.HAYAKAWA, M.HIRAYAMA, A.TERAMOTO, S.SUGAWA, T.OHMI: "High-Quality Silicon Oxide Film Formed by Diffusion Region Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition and Oxygen Radical Treatment Using Microwave-Excited High-Density Plasma"Jpn.
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H.TANAKA、Z.CHUANJIE、Y.HAYAKAWA、M.HIRAYAMA、A.TERAMOTO、S.SUGAWA、T.OHMI：“通过扩散区等离子体增强化学气相沉积和微波氧自由基处理形成高质量氧化硅薄膜
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