液中成膜プロセスによる酸化セリウム膜の形態制御と抵抗変化型メモリへの応用
液中成膜プロセスによる酸化セリウム膜の形態制御と抵抗変化型メモリへの応用
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浸没式薄膜沉积氧化铈薄膜形貌控制及其在阻变存储器中的应用
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
松下 伸広
中科院分区：
文献类型：
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作者：
青木 俊悟;久保田 雄太;松下 伸広
