M.Tonouchi,F.Moriyama,and T.Miyasato: "Charactertion of μcーSi:H Films Prepared by H_2 Sputtering" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L385-L387 (1990)
M.Tonouchi,F.Moriyama,and T.Miyasato: "Charactertion of μcーSi:H Films Prepared by H_2 Sputtering" Japanese Journal of Applied Physics. 29. L385-L387 (1990)
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M.Tonouchi、F.Moriyama 和 T.Miyasato：“H_2 溅射制备的 μc-Si:H 薄膜的特性”《日本应用物理学杂志》29. L385-L387 (1990)。
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