Sputter-assisted Plasma CVD of Wide or Narrow Optical Bandgap Amorphous CN_X:H Films Using i-C4H_10/N_2 Supermagnetron Plasma
Sputter-assisted Plasma CVD of Wide or Narrow Optical Bandgap Amorphous CN_X:H Films Using i-C4H_10/N_2 Supermagnetron Plasma
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使用 i-C4H_10/N_2 超磁控等离子体溅射辅助等离子体 CVD 制备宽或窄光学带隙非晶 CN_X:H 薄膜
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Kinoshita;et. al.
