TaN/Hf系high-k/Siゲートスタック構造の電気特性
TaN/Hf系high-k/Siゲートスタック構造の電気特性
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TaN/Hf基高k/Si栅堆叠结构的电学特性
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中島 寛
中科院分区：
文献类型：
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作者：
杉本 陽平;山本 圭介;梶原 誠生;末慶 雄策;中島 寛
