Dissolution Kinetics in Chemically Amplified EUV Resist
Dissolution Kinetics in Chemically Amplified EUV Resist
复制标题
化学放大 EUV 光刻胶的溶解动力学
DOI：
10.2494/photopolymer.24.405
复制
发表时间：
2011
影响因子：
0.8
通讯作者：
and J. Onodera
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;S. Tagawa T. Ando;K. Ohmori;M. Sato;and J. Onodera
