ICFO-Institut de Ciencies Fotoniques(スペイン)
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ICFO-摄影科学研究所（西班牙）
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中科院分区：
文献类型：
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影响因子：
3.7
作者：
I. Chen;Thomas Iadecola
通讯作者：
I. Chen;Thomas Iadecola
DOI：
10.1103/physrevx.11.021021
发表时间：
2020-06
期刊：
arXiv: Quantum Physics
影响因子：
--
作者：
C. J. Turner;Jean-Yves Desaules;Kieran Bull;Z. Papi'c
通讯作者：
C. J. Turner;Jean-Yves Desaules;Kieran Bull;Z. Papi'c
影响因子：
8.6
作者：
Zakrzewski;Kus
通讯作者：
Kus
光学晶格中的量子多体疤痕。
影响因子：
8.6
作者：
Hongzheng Zhao;Joseph Vovrosh;F. Mintert;J. Knolle
通讯作者：
J. Knolle
影响因子：
64.8
作者：
Bernien, Hannes;Schwartz, Sylvain;Lukin, Mikhail D.
通讯作者：
Lukin, Mikhail D.