紫外光支援加工による大口径SiCウェハ研磨に関する研究
紫外光支援加工による大口径SiCウェハ研磨に関する研究
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紫外光辅助加工大直径SiC晶片抛光研究
DOI:
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发表时间:
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期刊:
影响因子:
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通讯作者:
坂本武司
中科院分区:
文献类型:
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作者:
J.Koike;K.Okubo;T.Fujii;坂本武司