微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
微細CMOS向け新コンタクト材料：クラスター気相合成法で形成したSiリッチWシリサイド膜
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精细CMOS新型接触材料：团簇气相合成法形成富硅钨硅化物薄膜
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
岡田 直也
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Naoya Okada;Noriyuki Uchida;Shinichi Ogawa;and Toshihiko Kanayama;岡田 直也
