CMOS photonics technologies based on heterogeneous integration of SiGe/Ge and III-V on Si
CMOS photonics technologies based on heterogeneous integration of SiGe/Ge and III-V on Si
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基于SiGe/Ge和III-V族在Si上异质集成的CMOS光子技术
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
and S. Takagi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Takenaka;Y. Kim;J. Han;J. Kang;Y. Ikku;Y. Cheng;J. Park;and S. Takagi
